首页
关于我们
产品展示
资讯中心
在线留言
联系我们
葡萄酒
电镀前处理
ECLPS 无铬无磷皮膜工艺
镀铜工艺
镀镍工艺
镀铬工艺
镀锌和钝化工艺
化学镍
镁合金化学镀镍工艺
其他电镀及表面处理工艺
编号
品名
商品简介
10401
SP 强力除蜡水
强力除蜡水是清除抛光蜡垢的专业产品,具有超强劲的润湿、渗透、乳化及剥离性能,在其他条件配合下(加温、搅动、超声波辅助等),能以极短时间将蜡垢彻底清除。 1.强力除蜡水凭借其优良的润湿性和渗透性,迅速渗入蜡垢深层,造成蜡垢软化、松动,更借其超卓的剥离功能,令顽固的蜡垢被迅速剥离界面。2.强力的乳化作用和增溶效应,同时兼具络合剂的作用,大大降低蜡垢重新聚集及金属氢氧化物再污染的机会,故工件表面清无残余膜层。3.强力除蜡水的亲水基团和厌水基团具有合理的平衡,故具有良好的水溶性和水洗性能。4.强力除蜡水可代替有机溶剂(如三氯乙烯)广泛应用于金属表面的各个领域,例如:不锈钢厨具、金属家具、自行车、摩托车、钟表、眼镜、灯饰及贵金属等镀前处理。锌基合金工件推荐使用ASP超力除蜡水。
11120
酸蚀剂Silacid 1110
1110Silacid酸蚀添加剂,用于硅片及硅块的酸蚀。 特性:- 含多种表面活性剂组合,是酸蚀工艺的添加剂。- 能建立一层微细,稠密和自调节的泡沫,因此能维持泡沫层于一定的低厚度和稳定性,适用于静止蚀刻及搅拌蚀刻槽。- 由于均匀的蚀刻和工艺的提速,从而改善酸蚀的效果。- 1110Silacid亦适用于超过滤。 应用:1110Silacid用于以硝酸/氢氟酸作为硅片酸蚀的添加剂。 浓度 0.3-0.6% 温度 常温 应用 空气搅拌或滚桶设备。当蚀率降低或泡沫厚度变低,便需补充1110Silacid。 环境保护:1110Silacid的主要物质是生物降解类,符合欧盟指引(648/2000)。溶液废弃须根据使用者当地法规处理。_______________V1.0TC20120416 本说明书为中文译本,只供参考,应以英文版为准。本说明书上所有建议,是根据信赖的实验室资料编成,由于不同的生产设备及工艺条件,可能会造成效果的差异,本公司并不承担任何责任。本说明书的所有内容不能作为侵犯版权的证据。
16200
200 除垢剂
200是一种无铬的除垢和去氧化剂液体,能使铝及其合金产生轻微蚀刻作用,并去除氧化皮。
16780
780 除垢剂
780除垢剂是应用于铝及铝合金的磷酸型去氧化和酸洗,亦适用于钢铁,在特定的条件下,也可用于锌铁。配合使用特别的添加剂 Candowet 840 或 Candowet 60,可除油除垢同步进行。金属表面经过725除垢剂处理后,对铬化或磷化非常好。725适用于浸泡或喷淋生产线,特别适合高硅铝合金压铸件。
11013
CF-3 号热浸除油粉
CF-3 号热浸除油粉是高浓缩除油粉,适用于钢铁、铜及铜合金的高效除油粉,具有极强渗透力,能清除顽固油脂,特选的表面活性剂,除油后的垢膜容易去除。寿命长,经济耐用。不含氢氧化钠,用户自行添加,操作灵活,节约成本。
16280
DOX 280 除垢剂
280 除垢剂是一种用于铝及其合金的不含铬的、有效的、稳定的产品,能去除铝合金表面的氧化膜,加强后续的喷涂或电镀的结合力。适用于浸泡和喷淋,可在室温下操作,不会产生黄烟。
13039
P 39 太阳能硅片清洗剂
P39太阳能硅片清洗剂是低泡中性清洗剂,专门用于硅片(SGSW)的喷淋预洗,储存和太阳能硅片的分离。 特性:- 中性清洗剂。- 表面活性剂具高效清洗和润滑能力,同时为低泡配方。- 由于具有良好的润滑能力,因此在分离硅片时破裂率非常低。- 在喷淋预洗设备中能高效地溶解和去除锯泥。- 适合于硅片的储存,在单一工艺操作可避免清洗时表面干涸。- 泡沫低,适合喷淋线使用。- 适用于所有硬质表面,亦适合用于半导体物料。(如:GaAs)- P39也适用于超过滤。
13095
P 95硅片清洗剂
P95硅片清洗剂配合超声波,专门应用于硅片表面(EGSW)在切锯,研磨及其他化学机械加工处理之后的垂直浸泡清洗。本品还可作为碱蚀的添加剂。 特性:- 微碱性清洗剂。- 高效,能溶解和去除锯齿泥浆。- 分散能力非常好,能把已去除的微粒保存在溶液中,不会再次沉积到工 件上。- 吸收油污量大,槽液使用寿命长。- 对硅片温和微蚀,如有需要可用氢氧化钠调整微蚀速率。添加P95至氢氧根碱性溶液可降低蚀率的因数为10-20。因此,P95特别适合用于在生产过程中需要使用碱性去除表面物质(如:塑料复膜)的工艺。- 适合用于所有硬质表面,亦适用于半导体物料如GnAs。- 配合超声波或超音波来大批量处理,效果非常出色。- P95所含的表面活性剂对强碱和高温非常稳定。- P95适用于有纯度要求,每批Puratron-67的铝、铜、铬、铁、镍、锌的浓度都经量度和证实,这些金属杂质的范围在0.3-2.0ppm(视金属而定)。 操作:P95用于垂直工艺生产线,配合超声波使用。 浓度 5-8% 温度 40-60℃ 可添加1-3%P95至碱性微蚀溶液以改善碱性微蚀。 环境保护:P95的主要物质是生物降解类,符合欧盟指引(648/2000)。溶液废弃须根据使用者当地法规处理。_______________V1.0TC20120416 本说明书为中文译本,只供参考,应以英文版为准。本说明书上所有建议,是根据信赖的实验室资料编成,由于不同的生产设备及工艺条件,可能会造成效果的差异,本公司并不承担任何责任。本说明书的所有内容不能作为侵犯版权的证据。
13050
S50 酸性清洗剂
S50是结合非离子和阳离子表面活性剂的高纯度高活性酸性清洗剂,用于硅片(EGSW)的精细及最后清洗。 特性:- 水性浓缩清洗剂。- S50不含碱性金属离子。- 有效地去除硅片表面的微量金属杂质。- 除污量大,溶解和吸收金属杂质的能力强。- 适用于所有抗酸表面。- S50符合对纯度的高要求,金属杂质范围是3-30ppb(视金属而定),每批S50都经量度和证实铝、铜、铬、铁、镍、锌的含量。- S50亦适用于超过滤。 应用:S50用于浸泡清洗工艺,配合超声波或超音波效果更佳。 浓度 0.1-1.0% 温度 常温-50℃ 环境保护:1110Silacid的主要物质是生物降解类,符合欧盟指引(648/2000)。溶液废弃须根据使用者当地法规处理。_______________V1.0TC20120416 本说明书为中文译本,只供参考,应以英文版为准。本说明书上所有建议,是根据信赖的实验室资料编成,由于不同的生产设备及工艺条件,可能会造成效果的差异,本公司并不承担任何责任。本说明书的所有内容不能作为侵犯版权的证据。