酸蚀剂Silacid 1110

1110Silacid酸蚀添加剂，用于硅片及硅块的酸蚀。特性：- 含多种表面活性剂组合，是酸蚀工艺的添加剂。- 能建立一层微细，稠密和自调节的泡沫，因此能维持泡沫层于一定的低厚度和稳定性，适用于静止蚀刻及搅拌蚀刻槽。- 由于均匀的蚀刻和工艺的提速，从而改善酸蚀的效果。- 1110Silacid亦适用于超过滤。应用：1110Silacid用于以硝酸/氢氟酸作为硅片酸蚀的添加剂。浓度 0.3-0.6% 温度常温应用空气搅拌或滚桶设备。当蚀率降低或泡沫厚度变低，便需补充1110Silacid。环境保护：1110Silacid的主要物质是生物降解类，符合欧盟指引（648/2000）。溶液废弃须根据使用者当地法规处理。_______________V1.0TC20120416 本说明书为中文译本，只供参考，应以英文版为准。本说明书上所有建议，是根据信赖的实验室资料编成，由于不同的生产设备及工艺条件，可能会造成效果的差异，本公司并不承担任何责任。本说明书的所有内容不能作为侵犯版权的证据。

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电镀前处理

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Silacid 1110 酸蚀剂 (Silacid Etch Additive 1110) 工艺编号：11110

简述：

1110 Silacid 酸蚀添加剂，用于硅片及硅块的酸蚀。

特性：

- 含多种表面活性剂组合，是酸蚀工艺的添加剂。

- 能建立一层微细，稠密和自调节的泡沫，因此能维持泡沫层于一定的低厚度和稳定性，适用于静止蚀刻及搅拌蚀刻槽。