S50 酸性清洗剂
S50是结合非离子和阳离子表面活性剂的高纯度高活性酸性清洗剂，用于硅片（EGSW）的精细及最后清洗。 特性：- 水性浓缩清洗剂。- S50不含碱性金属离子。- 有效地去除硅片表面的微量金属杂质。- 除污量大，溶解和吸收金属杂质的能力强。- 适用于所有抗酸表面。- S50符合对纯度的高要求，金属杂质范围是3-30ppb（视金属而定），每批S50都经量度和证实铝、铜、铬、铁、镍、锌的含量。- S50亦适用于超过滤。 应用：S50用于浸泡清洗工艺，配合超声波或超音波效果更佳。 浓度 0.1-1.0% 温度 常温-50℃ 环境保护：1110Silacid的主要物质是生物降解类，符合欧盟指引（648/2000）。溶液废弃须根据使用者当地法规处理。_______________V1.0TC20120416 本说明书为中文译本，只供参考，应以英文版为准。本说明书上所有建议，是根据信赖的实验室资料编成，由于不同的生产设备及工艺条件，可能会造成效果的差异，本公司并不承担任何责任。本说明书的所有内容不能作为侵犯版权的证据。
所属分类：
电镀前处理
关键词：
电镀
产品详情
Silapur -50 |
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| S50 酸性清洗剂 |
工艺编号: |
13050 |
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简述：
S 50 是结合非离子和阳离子表面活性剂的高纯度高活性酸性清洗剂，用于硅片（EGSW）的精细及最后清洗。
特性：
- 水性浓缩清洗剂。
- S 50 不含碱性金属离子。
- 有效地去除硅片表面的微量金属杂质。
- 除污量大，溶解和吸收金属杂质的能力强。
- 适用于所有抗酸表面。
- S 50 符合对纯度的高要求，金属杂质范围是3-30 ppb（视金属而定），每批S 50 都经量度和证实铝、铜、铬、铁、镍、锌的含量。
- S 50 亦适用于超过滤。
应用：
S 50 用于浸泡清洗工艺，配合超声波或超音波效果更佳。
浓度 0.1-1.0%
温度 常温-50℃
环境保护：
1110 Silacid 的主要物质是生物降解类，符合欧盟指引（648/2000）。
溶液废弃须根据使用者当地法规处理。
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V1.0TC20120416
本说明书上所有建议，是根据信赖的实验室资料编成，由于不同的生产设备及工艺条件，可能会造成效果的差异，本公司并不承担任何责任。本说明书的所有内容不能作为侵犯版权的证据。
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