太阳能硅片清洗剂 P11

P11硅片清洗剂配合超声波，专门应用于硅片表面（EGSW）在切锯，研磨及其他化学机械加工处理之后的垂直浸泡清洗。本品还可作为碱蚀的添加剂。特性：- 微碱性清洗剂。- 高效，能溶解和去除锯齿泥浆。- 分散能力非常好，能把已去除的微粒保存在溶液中，不会再次沉积到工件上。- 吸收油污量大，槽液使用寿命长。- 对硅片温和微蚀，如有需要可使用氢氧化钠改变微蚀速率。添加P11至氢氧根碱性溶液可降低蚀率的因数为10-20。因此，P11特别适合用于在生产过程中，当需要使用碱性去除表面物质（如：塑料复膜）。- 适合用于所有硬质表面，亦适用于半导体物料如GnAs。- 配合超声波或超音波来大批量处理，效果非常出色。-P11所含的表面活性剂对强碱和高温非常稳定。- P11适用于有纯度要求，每批Puratron-11的铝、铜、铬、铁、镍、锌的浓度都经量度和证实，这些金属杂质的范围在0.3-2.0ppm（视金属而定）。-P11亦适用于超过滤。操作：P11用于超声波垂直清洗工艺浓度 5-8% 温度 40-90℃可添加P11 1-3%至碱蚀溶液以改善碱蚀效果。环境保护：P11的主要物质是生物降解类，符合欧盟指引（648/2000）。溶液废弃须根据使用者当地法规处理。

所属分类：

电镀前处理

关键词：

电镀

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简述：

P11 硅片清洗剂配合超声波，专门应用于硅片表面（EGSW）在切锯，研磨及其他化学机械加工处理之后的垂直浸泡清洗。本品还可作为碱蚀的添加剂。

特性：

- 微碱性清洗剂。

- 高效，能溶解和去除锯齿泥浆。

- 分散能力非常好，能把已去除的微粒保存在溶液中，不会再次沉积到工件上。